Ｅｘａｆｌｏｐｓ　米国ハイテク戦略の全貌

発売日：2006年3月

ISBN: 978-4-8190-1805-0
著者情報: 畑　次郎（ハタ　ジロウ）
昭和１９年９月４日京都市生れ。昭和５０年３月大阪市立大学理学研究科博士課程修了。物性物理専攻。理学博士。昭和５４年３月〜昭和５５年４月ロンドン大学博士研究員。昭和５５年５月〜昭和５９年９月オックスフォード大学博士研究員。昭和６０年５月東京エレクトロン株式会社総合研究所入社。平成４年４月総合研究所所長。平成９年１１月副技師長。平成１５年７月東京エレクトロン株式会社退職。執筆活動に入る。業界活動―平成８年４月〜平成９年３月山梨大学地域共同開発研究センター客員教授。平成１１年４月〜平成１５年３月社団法人電子情報技術産業協会半導体技術ロードマップ専門委員会特別委員。平成１１年６月〜平成１５年７月社団法人日本半導体製造装置協会環境部会省エネルギー専門委員会委員長。専門分野―プラズマプロセス装置開発、半導体製造装置の省エネルギー問題

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商品説明

１９８０年代からのパルミサーノ・レポートまでの米国ハイテク戦略を研究・開発の最前線から分析。

第１章　国際競争：新たな現実
第２章　米国半導体産業復活の序章
第３章　冷戦の終結
第４章　赤レンガ障壁
第５章　グリッド・コンピューティング
第６章　エクサフロップスへの挑戦
第７章　９月１１日後
第８章　イノベートアメリカ
第９章　究極の情報革命を目指して

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