デザイン保護法制の現状と課題 法学と創作の視点から
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麻生典／編 Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈ Ｒａｄｅｍａｃｈｅｒ／編 麻生 典
九州大学大学院芸術工学研究院助教。１９８３年生まれ。２０１２年慶應義塾大学大学院法学研究科後期博士課程単位取得退学。２０１３年博士（法学）「知的財産法」
ラーデマッハ，クリストフ（Ｒａｄｅｍａｃｈｅｒ，Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈ）
早稲田大学法学学術院准教授。１９８１年生まれ。２００９年スタンフォード大学ロースクールＬＬＭ卒業（知的財産法）。２００９年ドイツ・ジーゲン大学法学研究科法学博士。２００７年～ベーカー＆マッケンジー法律事務所。ニューヨーク州弁護士「知的財産法」
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- 出版社名
- ページ数
- ６１４ｐ
- ISBN
- 978-4-535-52182-7
- 発売日
- 2016年12月
商品の説明
- デザイン保護法制の現状と課題を検討し、創作実態に即したデザイン保護のニーズを踏まえて世界統一の保護法制の確立を展望する。
- 目次
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第１部 法学（各国のデザイン保護法制の課題
デザインと諸法
意匠法の淵源）
第２部 デザイン学（プロダクトデザイン
情報デザイン
アート）
第３部 認知科学（カード配置による外観類似の可視化
文脈効果を考慮した他の意匠の存在による類似度の変化―認知科学的見地に基づく意匠の類否判断の再検討）
商品詳細情報
| フォーマット | 単行本 |
|---|---|
| サイズ | ２２ｃｍ |
| 初版の取り扱いについて | 初版・重版・刷りの出荷は指定ができません。 また、初版にのみにお付けしている特典（初回特典、初回仕様特典）がある商品は、 商品ページに特典の表記が掲載されている場合でも無くなり次第、終了となりますのでご了承ください。 |
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