二次イオン質量分析法「第２版」

二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）は、試料表面にイオンビームを照射し、飛び出した二次イオンの質量を検出して物質を同定し、さらに各物質の試料中での分布をイメージングする手法である。金属や半導体から高分子材料、生体試料にも適用できる分析法として、多くの研究分野で活用されている。２５年ぶりの大改訂となる本書では、重要性の高い基礎的な内容だけでなく、目的別の応用例を大幅に拡充。これからＳＩＭＳを使い始める学生はもちろん、現場の実務者にとっても有用な手引きとなる一冊。

二次イオン質量分析法（SIMS）は、試料表面にイオンビームを照射し、飛び出した二次イオンの質量を検出して物質を同定し、さらに各物質の試料中での分布をイメージングする手法である。金属や半導体から高分子材料、生体試料にも適用できる分析法として、多くの研究分野で活用されている。
25年ぶりの大改訂となる本書では、重要性の高い基礎的な内容だけでなく、目的別の応用例を大幅に拡充。これからSIMSを使い始める学生はもちろん、現場の実務者にとっても有用な手引きとなる一冊。

目次

1　二次イオン質量分析法（SIMS）とは何か
　1.1　なぜSIMSで表面分析ができるのか
　1.2　なぜSIMSで深さ方向分析ができるのか
　1.3　なぜSIMSでイメージングができるのか
　1.4　SIMSの歴史
　1.5　SIMSで分析できる試料

2　 SIMSの原理
　2.1　スパッタリング収率
　　2.1.1　スパッタリング過程
　　2.1.2　現象のシミュレーション
　　2.1.3　スパッタリング収率
　2.2　二次イオン化率 と二次イオン収率
　　2.2.1　二次イオン化率
　　2.2.2　二次イオン収率
　　2.2.3　二次イオンの発生過程
　　2.2.4　ユースフルイールド
　2.3　マトリックス効果
　　2.3.1　マトリックス効果の基礎
　　2.3.2　D-SIMSにおけるマトリックス効果の実際とその抑制例
　　2.3.3　S-SIMSにおけるマトリックス効果の実際とその抑制例

3　SIMS装置の基礎
　3.1　装置の概略
　3.2　一次イオン照射系
　　3.2.1　イオン源
　3.3　ガスクラスターイオンビーム（GCIB）
　　3.3.1　クラスターの種類とガスクラスター
　　3.3.2　ガスクラスターの生成とイオン化
　　3.3.3　クラスターサイズ分布と照射効果
　　3.3.4　GCIB-SIMS装置
　　3.3.5　GCIB-SIMSの特徴
　3.4　二次イオン質量分析計
　　3.4.1　二重収束型質量分析計
　　3.4.2　四重極型質量分析計
　　3.4.3　飛行時間型質量分析計
　　3.4.4　MS/MSを搭載した飛行時間型質量分析計
　3.5　高空間分解能SIMS
　　3.5.1　深さ方向分解能
　　3.5.2　面分解能
　　3.5.3　走査型イメージング
　　3.5.4　投影型イメージング

4　SIMSによる測定の実際
　4.1　試料の準備
　　4.1.1　試料の保存・輸送
　　4.1.2　試料表面のクリーニング
　ほか

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