薄膜工学「第4版」
- 版数
- 第4版
- ページ数
- 310p
- ISBN
- 978-4-621-30978-0
- 著者情報
- 田畑 仁(タバタ ヒトシ)
東京大学大学院工学系研究科
吉田 貞史(ヨシダ タダフミ)
産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
近藤 高志(コンドウ タカシ)
東京大学先端科学技術研究センター
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商品説明
薄膜技術は長い歴史をもつ基礎的な技術であり、応用される分野は広い。とくに今日のナノテクノロジーは、微細加工・微細構造作製技術と組み合わされた薄膜技術なしには成り立たない。本書は薄膜の作製・評価・性質を系統的にまとめた解説書である。基本を重視する従来の編集方針はそのままに、第4版では新たに3項目「半導体薄膜(ワイドバンドギャップ材料)」「ハロゲン化金属ペロブスカイト薄膜(太陽電池への応用)」「2次元材料薄膜(グラフェン、MX2など)」を追加。薄膜技術の基礎・応用に携わる学生、研究者、技術者にとって最適な一冊である。
薄膜は薄い2次元状の膜の総称であり、薄膜工学は、物理や化学に裏打ちされた薄膜学を工学に応用したものである。薄膜技術は、紀元前のスズめっきに始まる基礎的な技術でありながら、関連する応用分野は広く、とくに今日のナノテクノロジーは微細加工・微細構造作製技術と組み合わせた薄膜技術なしには成り立たない。
本書は、薄膜の作製・評価・性質を系統的にまとめた入門書であり、これまで学部学生から大学院生、企業の若手技術者のための標準的解説書として広く使用されてきた。今回の第4版では、新たに3つの節「半導体薄膜(ワイドバンドギャップ材料)」「ハロゲン化金属ペロブスカイト薄膜」「2次元材料薄膜(グラフェン、MX2など)」を追加。本分野の技術進展や社会的要請にあわせて、さらに内容を充実させた。
目次
1 薄膜工学の基礎
1.1 薄膜の歴史
1.2 薄膜と工学
1.3 薄膜形成技術
1.4 薄膜の応用
2 薄膜作製法
2.1 真空蒸着・MBE法
2.2 スパッタリング
2.3 化学気相成長
2.4 印刷法
3 薄膜評価法
3.1 膜厚・形状評価
3.2 結晶構造評価
3.3 組成・状態分析
3.4 力学的性質の評価
4 薄膜の機能と応用
4.1 半導体薄膜(シリコン系)
4.2 半導体薄膜(化合物)
4.3 半導体薄膜(ワイドバンドギャップ材料)
4.4 薄膜の光学的性質
4.5 誘電体薄膜
4.6 磁性薄膜
4.7 有機薄膜
4.8 ハロゲン化金属ペロブスカイト薄膜
4.9 2次元材料薄膜(グラフェン,MX2など)
4.10 薄膜の化学的性質
商品詳細
- 出版社名
- 丸善出版
- サイズ
- 21cm
- フォーマット
- 単行本
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