よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰「第4版」

佐藤淳一/著

発売日:2020年9月

  • よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰「第4版」
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版数
第4版
ページ数
255p
ISBN
978-4-7980-6245-7

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商品説明

シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰。半導体製造工程の流れが図解でよくわかる。

目次

第1章 半導体製造プロセス全体像
第2章 前工程の概要
第3章 洗浄・乾燥ウェットプロセス
第4章 イオン注入・熱処理プロセス
第5章 リソグラフィプロセス
第6章 エッチングプロセス
第7章 成膜プロセス
第8章 平坦化(CMP)プロセス
第9章 CMOSプロセスフロー
第10章 後工程プロセスの概要
第11章 後工程の動向
第12章 半導体プロセスの最近の動向

商品詳細

シリーズ名
図解入門:How‐nual Visual Guide Book
出版社名
秀和システム新社
サイズ
21cm
対象年齢
一般
フォーマット
単行本

注意事項

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