ドライプロセス表面処理大全

  • ドライプロセス表面処理大全
  • ドライプロセス表面処理大全
ページ数
285p
ISBN
978-4-526-07968-9

¥3,300 税込

15 nanacoポイント

15 セブンマイル

セブン-イレブン受取り(送料無料)

発送目安

発売日(発売日以降は当日)~2日で発送

宅配(送料¥550税込)

発送目安

発売日(発売日以降は当日)~2日で発送

交通状況・天候の影響や注文が集中した場合等、お届けにお時間をいただく場合がございます。

商品説明

ドライプロセス表面処理技術は、めっきを中心とするウェットプロセスとともに、薄膜材料形成に広く使われている。エレクトロニクス分野、光学分野、機械分野だけでなく、医療や食品分野までもその活用が期待されている。

目次

第1章 ドライプロセスの基礎
第2章 ドライプロセスの特徴と種類
第3章 物理蒸着(PVD)法
第4章 化学蒸着(CVD)法
第5章 ドライプロセス表面加工法
第6章 ドライプロセス表面改質法
第7章 ドライプロセスの応用
第8章 機能性薄膜
第9章 ドライプロセスの最新技術・研究

商品詳細

シリーズ名
技術大全シリーズ
出版社名
日刊工業新聞社
サイズ
21cm
フォーマット
単行本

注意事項

本の帯に関して
帯つきでの出荷はお約束しておりません。
商品ページに、帯のみに付与される特典物等の表記がある場合でも、確実に帯つきでの出荷はお約束しておりません。
また、帯は商品の一部ではなく「広告扱い」のため、帯の有無・破損による交換や返品は承っておりません。
版・表紙について
版・表紙(カバー)のご指定は承っておりません。ご注文いただくタイミングによっては、お届けする商品の版や表紙が商品ページ上のものとは異なる場合がございます。
また、初版にのみにお付けしている特典(初回特典、初回仕様特典)がある商品は、商品ページに特典の表記がされている場合でも、無くなり次第終了となります。