ＡＬＤ〈原子層堆積〉によるエネルギー変換デバイス
Ｊｕｌｉｅｎ Ｂａｃｈｍａｎｎ／原著編 鈴木雄二／監訳 廣瀬千秋／訳
発売日：2018年11月
- ISBN
- 978-4-86043-565-3
- 著者情報
- 鈴木 雄二（スズキ ユウジ）
東京大学大学院工学系研究科機械工学専攻教授、博士（工学）。東京大学大学院工学系研究科博士課程修了。東京大学工学部助手、名古屋工業大学工学部講師、東京大学大学院工学系研究科講師、同助教授・准教授を経て２０１０年より教授。専門は熱流体工学、ＭＥＭＳ、マイクロエネルギー、環境発電（エネルギーハーベスティング）、燃焼における壁面効果、熱機器の最適設計、熱流体計測法
廣瀬 千秋（ヒロセ チアキ）
東京工業大学名誉教授、理学博士。東京大学大学院理学系研究科化学専攻後期博士課程中退。東京工業大学資源化学研究所助手、同助教授、教授を経て定年退職。現役時代の専門は物理化学（構造化学、分子分光、マイクロ波分光、レーザー分光、表面和周波分光）
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商品説明
目次
第１編 ＡＬＤ（原子層堆積）入門（原子層堆積の基礎：膜成長の特性と類似性）
第２編 光電効果材料におけるＡＬＤ（Ｓｉ太陽電池のパッシベーションに用いる原子層堆積
光吸収のために行うＡＬＤ
ナノ構造体太陽電池における表面および界面エンジニアリングのための原子層堆積（ＡＬＤ））
第３編 ＡＬＤの電気化学的なエネルギー貯蔵への適用（燃料電池および電解槽に使用する電極触媒の原子層堆積
薄膜リチウムイオン電池用の原子層堆積
高温燃料電池用のＡＬＤ処理酸化物）
第４編 ＡＬＤの光電気化学的エネルギー変換および熱電効果によるエネルギー変換への適用（光電気化学的水分解に用いるＡＬＤ
熱電材料のための原子層堆積）
商品詳細
- 出版社名
- エヌ・ティー・エス
- フォーマット
- 単行本
- 原題
- 原タイトル：Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｉｎ Ｅｎｅｒｇｙ Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ
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