超並列電子ビーム描画装置の開発 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
江刺正喜／著 宮口裕／著 小島明／著 池上尚克／著 越田信義／著 菅田正徳／著 大井英之／著
発売日：2018年6月
- ISBN
- 978-4-86163-296-9
- 著者情報
- 江刺 正喜（エサシ マサヨシ）
１９７１年東北大学工学部電子工学科卒。１９７６年同大学院博士課程修了。同年より東北大学工学部助手、１９８１年助教授、１９９０年より教授となり現在（東北大学マイクロシステム融合研究開発センター（μＳＩＣ））に至る。半導体センサ、マイクロシステム、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の研究に従事
宮口 裕（ミヤグチ ヒロシ）
１９７９年慶應義塾大学工学研究科電気工学専攻修士課程修了。同年、（株）東芝に入社し、ビデオ機器および関連ＬＳＩの開発。１９８７年日本テキサスインスツルメンツ（株）に入社し、ビデオ信号処理ＤＳＰとそのアプリケーションの開発。２０１１年東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて触覚センサーシステムならびに超並列電子線直接描画装置の開発に従事。２０１７年より東北大学革新的イノベーション研究機構に勤務
小島 明（コジマ アキラ）
２００３年東京農工大学工学研究科にて博士（工学）取得。２００７年より２０１３年まで（株）クレステックにて、ナノ結晶シリコン電子源を応用した面電子線露光の研究開発。２０１４年より東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて超並列電子線直接描画装置の開発。２０１７年より（株）カンタム１４に勤務
池上 尚克（イケガミ ナオカツ）
１９８４年慶応義塾大学工学部電気工学科卒業。１９９８年同大学大学院理工学研究科より博士（工学）。１９８４年〜２００９年沖電気工業（株）にてＤＲＡＭ、完全空乏型ＳＯＩデバイス対応プラズマエッチングプロセスの研究開発、量産立ち上げ、および多軸ＭＥＭＳ加速度＋ジャイロセンサの研究開発とその海外市場開拓等に従事。東北大学、東京農工大学を経て２０１４年東北大学マイクロシステム融合研究開発センターで超並列電子線描画装置の開発に従事。２０１７年よりＧｏｅｒｔｅｋ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｊａｐａｎ（株）に勤務
越田 信義（コシダ ノブヨシ）
１９６６年東北大学工学部電子工学科卒。１９７３年同大学院博士課程修了（工学博士）。日産自動車（株）中央研究所を経て、１９８１年東京農工大学助教授、１９８８年同教授、２００９年同特任教授・名誉教授。この間、米ＭＩＴ客員研究員（１９９２‐１９９３）、仏Ｊ．フーリエグルノーブル大学招聘客員教授（１９９６）、（株）カンタム１４ＣＴＯ（２００３〜）。ナノ構造シリコンなどの光電子材料・デバイスに関する研究に従事。米Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙフェロー（２００６）、応用物理学会フェロー（２００７）
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商品説明
並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめる。
目次
第１章 マスクレス露光と電子ビーム描画・転写（マスクレス露光（描画）
各種電子ビーム描画・転写）
第２章 並列電子ビーム描画の課題（電子ビーム制御
電子ビームの集束と電子レンズ ほか）
第３章 並列電子ビーム描画装置用電子源（研究されてきた各種電子源
ナノクリスタルシリコン（ｎｃ‐Ｓｉ）電子源）
第４章 超並列電子ビーム描画（ＭＰＥＢＷ）（システム構成
電子源アレイ ほか）
第５章 応用と今後の課題（デバイス大量生産への応用
マルチビーム技術の直接描画への応用 ほか）
商品詳細
- 出版社名
- 東北大学出版会
- 対象年齢
- 一般
- フォーマット
- 単行本
注意事項
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