米国特許出願書類作成および侵害防止戦略
ベンジャミン Ｊ．ハウプトマン／共著 キエン Ｔ．リー／共著 川上桂子／監修 安江佳奈／訳
発売日：2017年9月
- ISBN
- 978-4-8065-2994-1
- 著者情報
- ハウプトマン，ベンジャミン・Ｊ．（ハウプトマン，ベンジャミンＪ．）（Ｈａｕｐｔｍａｎ，Ｂｅｎｊａｍｉｎ Ｊ．）
米国ヴァージニア州アレクサンドリアを本拠とするＨａｕｐｔｍａｎ Ｈａｍ，ＬＬＰ事務所創設シニア・マネージング・パートナー。Ｈａｕｐｔｍａｎ Ｈａｍ，ＬＬＰ東京オフィス常駐マネージング・パートナー。複雑な機械・電気電子技術における出願書類作成・権利化業務等の特許・商標分野、ならびに知的財産権の権利行使・侵害対策および使用許諾等の知的財産権保護のあらゆる局面において、特許弁護士としての実務経験を３０年以上有する。マサチューセッツ工科大学（ＭＩＴ）にて工学士号を、フランクリン・ピアス・ロー・センター（現：ニューハンプシャー大学法科大学院）にて法務博士号（ＪＤ）を取得
リー，キエン・Ｔ．（リー，キエンＴ．）（Ｌｅ，Ｋｉｅｎ Ｔ．）
米国内外の依頼人を代理して、主に電気電子、ソフトウェア、機械分野の特許出願書類作成およびその権利化に従事。Ｈａｕｐｔｍａｎ Ｈａｍ，ＬＬＰ事務所登録米国パテントエージェント。理学士号（ＢＳ）および科学修士号（ＭＳ）を持ち、フランクリン・ピアス・ロー・センターにて知的財産権修士号（ＭＩＰ）を取得
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商品説明
日常業務にすぐに応用できる実務ハンドブック。根本にある法原理の説明に次いで、完全な理解を促す学習の手引きを提供。発明者による発明開示書に基づき、具体例を用いて米国特許実務を解説。
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米国連邦巡回控訴裁判所前裁判長 ランダル Ｒ． レーダー氏が推薦
米国特許弁護士として３０年を超える著者の実務研修が追体験できる！
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本書は、米国特許弁護士としての３０年を超える経験により、あらゆる事例に通じ、米国審査官との心理的な駆け引きを熟知している著者が、自身の生徒を実際に指導する際の実務研修を追体験できる内容となっております。
本書は実務ハンドブックであるため、まず根本にある法原理を説明してから、特定のテーマを習得するための手引きを提供しています。次いで、付録の発明開示書に基づき、具体例を用いて著者の指導内容を解説しています。これにより、指導内容を現実の実務にすぐに応用できるものとなっております。
米国外で生活し就労しつつ、米国に出願される特許出願書類の作成および特許出願品質管理を担当する特許技術者・特管理者が、十分な技術スキルと法律スキルを身につけるための必読書です。
目次
第１章 米国特許出願書類の作成（始めに―クレームドラフティング
明細書作成）
第２章 中間手続（その引用例は、先行技術なのか？
拒絶理由を否認できるか？
最後の手段としての補正 ほか）
第３章 中間手続 上級編（ＫＳＲ拒絶への反論
拒絶理由通知の評価
最終拒絶理由通知後の実務 ほか）
商品詳細
- シリーズ名
- 現代産業選書 知的財産実務シリーズ
- 出版社名
- 経済産業調査会
- フォーマット
- 新書・選書
- 原題
- 原タイトル：Ｕ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｄｒａｆｔｉｎｇ ａｎｄ Ｉｎｆｒｉｎｇｅｍｅｎｔ Ａｖｏｉｄａｎｃｅ Ｓｔｒａｔｅｇｉｅｓ〈ＰＡＤＩＡＳ〉
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