デザイン保護法制の現状と課題 法学と創作の視点から
発売日：2016年12月
- ISBN
- 978-4-535-52182-7
- 著者情報
- 麻生 典（アソウ ツカサ）（Ｒａｄｅｍａｃｈｅｒ，Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈ）
九州大学大学院芸術工学研究院助教。１９８３年生まれ。２０１２年慶應義塾大学大学院法学研究科後期博士課程単位取得退学。２０１３年博士（法学）「知的財産法」
ラーデマッハ，クリストフ（ラーデマッハ，クリストフ）
早稲田大学法学学術院准教授。１９８１年生まれ。２００９年スタンフォード大学ロースクールＬＬＭ卒業（知的財産法）。２００９年ドイツ・ジーゲン大学法学研究科法学博士。２００７年〜ベーカー＆マッケンジー法律事務所。ニューヨーク州弁護士「知的財産法」
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商品説明
デザイン保護法制の現状と課題を検討し、創作実態に即したデザイン保護のニーズを踏まえて世界統一の保護法制の確立を展望する。
創作実態に即したデザインの保護ニーズを踏まえ、世界的に統一された保護法制の確立を展望するため、デザイン保護法制の現状と課題
(「近刊情報」より)
目次
第１部 法学（各国のデザイン保護法制の課題
デザインと諸法
意匠法の淵源）
第２部 デザイン学（プロダクトデザイン
情報デザイン
アート）
第３部 認知科学（カード配置による外観類似の可視化
文脈効果を考慮した他の意匠の存在による類似度の変化―認知科学的見地に基づく意匠の類否判断の再検討）
商品詳細
- 出版社名
- 日本評論社
- フォーマット
- 単行本
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