ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用
発売日：2016年12月
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商品説明
「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」の応用編。
第Ｉ編「ドライプロセスの基盤技術」および第ＩＩ編「ドライプロセスの応用」から構成され，
研究現場や製造現場で的確にドライプロセスが実施できるよう工夫し解説した。
「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」の応用編。
第１編「ドライプロセスの基盤技術」および第２編「ドライプロセスの応用」から構成され，
研究現場や製造現場で的確にドライプロセスが実施できるよう工夫し解説した。
(「近刊情報」より)
目次
第１編 ドライプロセスの基盤技術（真空技術
ガス制御
プロセスモニター）
第２編 ドライプロセスの応用（光学薄膜
トライボロジー薄膜
表面硬化処理
耐環境性皮膜
ガスバリア膜
親水性とはっ水性
高分子材料の表面処理
炭素系薄膜
ドライプロセスと医療）
商品詳細
- 出版社名
- コロナ社
- フォーマット
- 単行本
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