できる技術者・研究者のための特許入門 元特許庁審査官の実践講座
発売日：2014年11月
- ISBN
- 978-4-06-153152-9
- 著者情報
- 渕 真悟（フチ シンゴ）
１９７５年生まれ。１９９９年名古屋大学大学院工学研究科材料機能工学専攻博士前期課程修了。２００２年同大学大学院工学研究科材料機能工学専攻博士後期課程短縮修了。博士（工学）。１９９９年より約７年間特許庁に勤務し、特許審査に従事。名古屋大学大学院工学研究科助教などを経て、２０１３年より青山学院大学理工学部准教授。化合物半導体量子構造やガラス蛍光体などの光電子材料の開発、デバイス作製、応用を研究している。理工系の教育研究に加え、名古屋大学時代は知的財産部の知財アソシエイトとしても活動
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商品説明
全技術者・研究者必携！拒絶理由通知なんて怖くない！書類作成に役立つチェックリストが超便利。誰も教えてくれなかったノウハウが満載。
目次
第１章 特許概説
第２章 特許取得の方法
第３章 特許審査
第４章 明細書案の作成
第５章 特許請求の範囲の作成
第６章 先行技術文献の調査
第７章 新規性・進歩性を考える
第８章 特許請求の範囲の再検討
第９章 審査官への対応
商品詳細
- 出版社名
- 講談社
- 対象年齢
- 一般
- フォーマット
- 単行本
注意事項
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