シリサイド系半導体の科学と技術 資源・環境時代の新しい半導体と関連物質
発売日:2014年9月
- ISBN
- 978-4-7853-2920-4
- 著者情報
- 前田 佳均(マエダ ヨシヒト)
1959年生。1982年京都大学工学部卒。1984年京都大学大学院工学研究科修了。同年、株式会社日立製作所入社。1995年大阪府立大学総合科学部講師、1996年助教授、1999〜2000年米国サリー大学客員研究員。2003年京都大学大学院エネルギー科学研究科助教授、2007年准教授、2012年九州工業大学大学院情報工学研究院教授。専門分野:半導体物性工学、ナノ構造光物性。所属学会:応用物理学会、日本物理学会、日本金属学会、日本真空学会、応用物理学会シリサイド系半導体と関連物質研究会委員長(初代)。博士(工学)(東京大学)
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商品説明
本書には、シリサイド系半導体の基礎、結晶成長と素材技術、薄膜形成技術、構造解析、鉄シリサイドの物性、新しいシリサイドの合成と物性、そして発光素子、太陽電池、光学応用、フォトニック結晶、スピントロニクスへの応用研究が含まれている。これらには、我が国の研究者が世界をリードして生まれた、ユニークで特筆すべきものが多く含まれている。
目次
第1章 シリサイド系半導体の基礎
第2章 結晶成長技術
第3章 薄膜形成技術
第4章 構造解析
第5章 鉄シリサイドの物性
第6章 新しいシリサイドの合成と物性
第7章 シリサイド系半導体の応用
商品詳細
- 出版社名
- 裳華房
- フォーマット
- 単行本
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