触媒ＣＶＤ〈Ｃａｔ‐ＣＶＤ〉の新展開　ラジカルを用いる新プロセス技術　普及版

2008年刊「触媒CVD(Cat-CVD)の新展開―ラジカルを用いる新プロセス技術―」の普及版。プラズマを用いない低温薄膜堆積法であるCat-CVDについて基礎から装置、材料、応用までを詳述。また半導体膜、太陽電池、プラスチックや金属のコーティング応用を掲載しています。

目次

総論　Ｃａｔ‐ＣＶＤ法の誕生、期待とその課題（Ｃａｔ‐ＣＶＤ法の誕生
Ｃａｔ‐ＣＶＤ膜の特徴　ほか）
第１章　基礎編（低温成膜の物理とＣａｔ‐ＣＶＤ―フィラメント表面での化学反応の評価
気相中のラジカル種の定量　ほか）
第２章　Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置（大型Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置
簡易型Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置　ほか）
第３章　応用編（ＳｉＮ―ＬＳＩトランジスターへの応用
レジストエッチング―水素ラジカルによるレジスト除去　ほか）
第４章　材料各論（アモルファスおよび微結晶Ｓｉ
エピタキシャルＳｉＣ　ほか）

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