ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎

本書では，まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ，次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに，代表的なドライプロセスを取り上げ，どのような原理・原則に基づいているか，薄膜・表面評価分析技術について解説。

目次

１　ドライプロセスとプラズマ（表面処理
ドライプロセスと真空　ほか）
２　真空およびプラズマ（真空
プラズマ　ほか）
３　ドライプロセスによる表面処理と薄膜形成（真空蒸着
イオンプレーティング　ほか）
４　分析と評価（膜厚測定
表面分析　ほか）

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