ＥＵＶ光源の開発と応用 普及版
発売日：2013年3月
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商品説明
2007年刊「EUV光源の開発と応用」の普及版。次世代半導体製造技術―波長13.5nm極端紫外線を詳述した国内初の成書です。実用化が進むEUV光源の開発動向やEUVリソグラフィ用のマスク、レジスト技術も解説しています。
目次
第１編 ＥＵＶ光源の開発（露光装置とＥＵＶリソグラフィ
ＥＵＶリソグラフィ用光源プラズマ
プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状
究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマＸ線源 ほか）
第２編 ＥＵＶリソグラフィ用のマスクとレジスト技術（Ｘ線多層膜の物理
ＥＵＶ用反射型マスク基板
ＥＵＶ用マスク
ＥＵＶレジストの特異性と反応機構 ほか）
商品詳細
- シリーズ名
- エレクトロニクスシリーズ
- 出版社名
- シーエムシー出版
- フォーマット
- 単行本
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