• 半導体・MEMSのための超臨界流体
  • 半導体・MEMSのための超臨界流体

超臨界流体のマイクロプロセス応用としては初めての本

ISBN
978-4-339-00837-1
著者情報
近藤 英一(コンドウ エイイチ)
1985年早稲田大学理工学部金属工学科卒業。1987年早稲田大学大学院博士前期課程修了(資源および金属工学専攻)。川崎製鐵株式会社(現JFEスチール株式会社)勤務。1994年川崎製鐵株式会社ハイテク研究所主任研究員。1995年博士(工学)(京都大学)。1996年IMEC(ベルギー)研究員。1997年IMECエキスパート研究員。1998年九州工業大学助教授。2000年山梨大学助教授。2007年山梨大学教授

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商品説明

気体と液体の性質を併せもつ超臨界流体について,その特長と,乾燥,めっき,薄膜堆積,洗浄など,半導体・MEMSのユニットプロセスへの応用をわかりやすく解説した,超臨界流体のマイクロプロセス応用としては初めての本。

目次

1 超臨界流体とマイクロ・ナノプロセス
2 半導体とMEMSの製造プロセス
3 超臨界乾燥
4 超臨界流体を用いた半導体・MEMS洗浄技術
5 多孔質薄膜と細孔エンジニアリング
6 めっきへの応用
7 化学的薄膜堆積
8 超臨界流体を用いたエッチング加工

商品詳細

出版社名
コロナ社
対象年齢
一般
フォーマット
単行本

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