液浸リソグラフィのプロセスと材料 普及版
発売日：2012年8月
- ISBN
- 978-4-7813-0550-9
- 著者情報
- 東木 達彦（ヒガシキ タツヒコ）
（株）東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第二部リソグラフィ技術開発第三担当グループ長
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商品説明
2006年刊「液浸リソグラフィのプロセスと材料」の普及版。液浸リソグラフィに携わる露光装置、トラック、マスク、レジスト材料、シミュレーションなどについて、あらゆる角度から技術開発動向を取り上げています。
目次
液浸リソグラフィーとは
液浸露光用塗布現像装置
レチクル技術
液浸リソグラフィの光学系
液浸露光装置の開発
液浸用レジストの開発
液浸用トップコート材料
液浸レジスト材料の評価
含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用
偏光照明技術
高ＮＡ投影レンズの開発
次世代液浸露光用高屈折率液体の開発
次世代液浸リソグラフィの光学系
３２ｎｍハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開
商品詳細
- シリーズ名
- エレクトロニクスシリーズ
- 出版社名
- シーエムシー出版
- フォーマット
- 単行本
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