アメリカ特許実務マニュアル ２０１１年米国特許法改正を踏まえて
発売日：2012年6月
- ISBN
- 978-4-502-05650-5
- 著者情報
- 井上 知哉（イノウエ トモヤ）
はるか国際特許事務所パートナー弁護士。２０００年慶應義塾大学理工学部物理情報工学科卒業。２００２年慶應義塾大学大学院理工学研究科総合デザイン工学専攻光・像情報工学専修修士課程修了。２００２年〜２００５年松下電器産業株式会社（現パナソニック株式会社）知的財産部。２００６年Ｆｒａｎｋｌｉｎ Ｐｉｅｒｃｅ Ｌａｗ Ｃｅｎｔｅｒ（米国）知的財産権修士課程修了。２００６年〜２００９年Ｏｓｈａ Ｌｉａｎｇ ＬＬＰ（オーシャリャン法律事務所（米国））。２００９年〜現在はるか国際特許事務所。アジア弁理士教会（ＡＰＰＡ）模倣品海賊版対策委員会委員（２０１０年〜現在）。日本弁理士会国際情報活動センター所属（２０１０年〜現在）
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商品説明
全体の施行に数年を要する大改正を概観し、新法・現行法を明示しつつ現在の実務を明らかにする。
目次
第１章 米国特許制度の全体像
第２章 米国特許出願の準備
第３章 特許要件
第４章 情報開示義務と不正行為
第５章 出願公開、仮保護の権利、情報提供
第６章 特許出願の審査
第７章 審判
第８章 特許付与後のレビュー制度
第９章 訂正・再発行
商品詳細
- 出版社名
- 中央経済社
- 対象年齢
- 一般
- フォーマット
- 単行本
注意事項
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