はじめての半導体リソグラフィ技術
発売日：2012年1月
- ISBN
- 978-4-7741-4939-4
- 著者情報
- 岡崎 信次（オカザキ シンジ）
１９７０年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。１９７０年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９８０年より１年間米国Ｒｅｎｓｓｅｌａｔｅｒ Ｐｏｌｙｔｅｃｈｎｉｃ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅに留学。１９９４年東京工業大学より工学博士授与。１９９５年日立製作所半導体事業部、１９９８年同社デバイス開発センターに異動、同年中央研究所に戻りＡＳＥＴに出向、ＥＵＶ研究室室長としてＥＵＶリソグラフィ技術の研究に従事。２００２年ＡＳＥＴ、ＥＵＶプロセス技術研究部部長に就任し、２００６年日立中研に戻る
鈴木 章義（スズキ アキヨシ）
１９７３年東京大学物理工学専門課程修士修了。１９７３年キヤノン（株）に入社。現在、ＮＧＬ推進統括部、キヤノンフェロー、ＳＰＩＥフェロー。１９８４年光学論文賞、１９８５年機械振興協会賞、２００５年新機械振興会賞。１９９１年東京大学より工学博士授与
上野 巧（ウエノ タクミ）
１９７９年東京工業大学大学院理工学研究科博士課程修了（理博）。１９７９年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９９５年同社日立研究所、２００１年日立化成工業（株）総合研究所、２００２年日立化成デュポンマイクロシステムズ（株）、２００５年より日立化成工業（株）筑波総合研究所主管研究員
セブン-イレブン受取り(送料無料)
発送目安
発売日（発売日以降は当日）～2日で発送
宅配（送料¥550税込）
発送目安
発売日（発売日以降は当日）～2日で発送
交通状況・天候の影響や注文が集中した場合等、お届けにお時間をいただく場合がございます。
商品説明
半導体リソグラフィ技術は、半導体集積回路の微細化、高集積化を牽引してきた中心的な技術です。しかもその技術は、パターンの原版となるマスクを作るマスク技術から、露光を行う露光装置技術、そして露光した潜像をレジストパターンとして、実際の加工につなげるレジストまで含む大きなシステム技術となっています。
本書では、光、電子線、Ｘ線、ＥＵＶ光、その他のエネルギー線にわけて、それらのエネルギーレベル毎のリソグラフィ技術をわかりやすく紹介しています。さらにリソグラフィ技術を支えるマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についても詳細に解説しています。
またリソグラフィ技術の進化が必ずしも半導体技術だけを中心にして進むとは限らない状況も生まれています。今後はメディアやＭＥＭＳなど、さまざまな応用分野に、リソグラフィ技術が応用されると思われます。そういう分野の方々への入門書としても活用できる一冊です。
目次
１章 半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術
２章 光リソグラフィ技術
３章 電子線リソグラフィ技術
４章 Ｘ線・ＥＵＶリソグラフィ技術
５章 その他のリソグラフィ技術
６章 マスク技術
７章 レジスト技術
８章 計測評価技術
９章 リソグラフィ技術の課題と今後の展望
商品詳細
- シリーズ名
- 現場の即戦力
- 出版社名
- 技術評論社
- 対象年齢
- 一般
- フォーマット
- 単行本
注意事項
- 本の帯に関して
- 帯つきでの出荷はお約束しておりません。
商品ページに、帯のみに付与される特典物等の表記がある場合でも、確実に帯つきでの出荷はお約束しておりません。
また、帯は商品の一部ではなく「広告扱い」のため、帯の有無・破損による交換や返品は承っておりません。 - 版・表紙について
- 版・表紙（カバー）のご指定は承っておりません。ご注文いただくタイミングによっては、お届けする商品の版や表紙が商品ページ上のものとは異なる場合がございます。
また、初版にのみにお付けしている特典（初回特典、初回仕様特典）がある商品は、商品ページに特典の表記がされている場合でも、無くなり次第終了となります。