はじめての半導体プロセス

前田和夫/著

発売日:2011年8月

  • はじめての半導体プロセス
  • はじめての半導体プロセス
ページ数
291p
ISBN
978-4-7741-4749-9
著者情報
前田 和夫(マエダ カズオ)
1959年横浜国立大学工学部化学工学科卒業。1959〜1978年富士通(株)勤務。1977年東京大学より工学博士号授与。1978〜1982年パイオニア(株)勤務。1979年米国SEMI(半導体装置材料協会)よりSEMMY賞授与。1982〜1988年アプライドマテリアルジャパン(株)勤務。1988年(株)半導体プロセス研究所設立。2008年9月逝去

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商品説明

工業調査会の書籍。半導体プロセスを基本要素に分けた基本プロセスと、それらの組合せで構成されるプロセスモジュールを中心に半導体プロセスについてわかりやすく解説します。

[著者プロフィール]1935年東京生れ。1959年横浜国立大学化学工業科卒。1959年〜78年富士通株式会社勤務。1977年東京大学より工学博士号授与。1978〜82年パイオニア株式会社勤務。1979年米国半導体装置材料協会よりSEMMY賞授与。1982〜88年アプライドマテリアルズジャパン株式会社勤務。1988年株式会社半導体プロセス研究所設立、現在に至る。

目次

1章 はじめての半導体プロセス
2章 半導体デバイスの種類と構造
3章 半導体プロセスの技術史
4章 半導体プロセスの概要
5章 基本プロセス技術
6章 複合プロセス技術―プロセスインテグレーション
7章 プロセス技術と装置・材料
8章 新しいプロセス技術のニーズ
9章 これからの半導体プロセス

商品詳細

シリーズ名
現場の即戦力
出版社名
技術評論社
サイズ
21cm
対象年齢
一般
フォーマット
単行本

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