半導体真空技術 ポイント解説
発売日：2011年5月
- ページ数
- ２１９ｐ
- ISBN
- 978-4-501-41890-8
- 著者情報
- 宇津木 勝（ウツギ マサル）
茨城県生まれ。１９８１年日本テキサスインスツルメンツ（株）入社。美浦工場生産技術部を経てＵＬＳＩ技術開発部へ。ＵＳダラス本社プロセスオートメーションセンターにて装置プロセス開発に従事。美浦工場にて装置開発に従事後プロセス担当。ＤＲＡＭ・ロジックデバイスの開発に従事。専門はメタリゼーション・インテグレーションエンジニアリング。１９９６年アプライドマテリアルズジャパン（株）入社、成田テクノロジーセンター勤務。カスタマーサポートおよび社内外の技術教育に従事
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商品説明
半導体産業に焦点をあて、そこにおける真空技術についてまとめた。理論的、体系的に半導体に関わる真空技術を解説。
目次
１ 基礎編（半導体製造装置と真空
真空の理論と計算
真空ポンプとその使い方
真空ゲージとその使い方
ガスシステム・真空部分とその使い方
リーク探し
真空装置の取り扱い）
２ 応用編（サーマル装置とプロセス
プラズマ装置とプロセス
ＰＶＤ装置とプロセス
ＣＶＤ装置とプロセス
エッチング装置とプロセス
インプランテーション装置とプロセス
プロセス管理・検査測定装置）
商品詳細
- 出版社名
- 東京電機大学出版局
- サイズ
- ２１ｃｍ
- 対象年齢
- 一般
- フォーマット
- 単行本
注意事項
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