フォトマスク 電子部品製造の基幹技術
発売日：2011年4月
- ISBN
- 978-4-501-32820-7
- 著者情報
- 田邉 功（タナベ イサオ）
１９６１年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻（現情報画像工学科）卒業。１９６１‐８１年（株）日立製作所：カラーＴＶ用シャドウマスク、ＩＣ、ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発、生産（武蔵工場マスク課長）。１９８１‐８９年ＨＯＹＡ（株）：ＬＳＩ、ＦＰＤ用フォトマスクの事業化（八王子工場長）。１９８９‐９３年ＨＯＹＡ Ｍｉｃｒｏ Ｍａｓｋ Ｉｎｃ．：ＬＳＩ用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発（ＥＶＰ＆ＣＴＯ）
竹花 洋一（タケハナ ヨウイチ）
１９６９年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻（修士）卒業。１９６９‐９０年（株）日立製作所：計測装置の技術開発、ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発、生産（デバイス開発センター主任技師）。１９９０‐９９年ＨＯＹＡ（株）八王子工場：ＬＳＩ、ＦＰＤ用フォトマスクの技術開発、生産（八王子工場長）。１９９４‐２００１年ＰＭＪ実行委員。１９９９‐２００４年ＨＯＹＡ（株）Ｒ＆Ｄセンター：次世代マスクの技術開発（担当部長）
法元 盛久（ホウガ モリヒサ）
１９７４年早稲田大学理工学部物理学科卒業。１９７４‐２０００年（株）日立製作所：半導体用フォトマスクの技術開発、生産（マスクセンター長）。１９９４‐２００６年ＰＭＪ論文委員（２００５‐０６年論文委員長）。２０００‐０２年大日本印刷（株）電子デバイス研究所：半導体用フォトマスクの技術開発（主席研究員）。２００２年〜現在、大日本印刷（株）研究開発センター：次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発（プロジェクトリーダー）
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商品説明
次世代技術を支えるフォトマスク技術について，開発に携わる著者がわかりやすく，体系的にまとめた。
目次
第１章 フォトマスク技術の基本
第２章 半導体用フォトマスク
第３章 電子部品用マスク
第４章 先端フォトマスク技術
第５章 ＮＧＬマスク技術
第６章 マスク産業の現状
第７章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し
商品詳細
- 出版社名
- 東京電機大学出版局
- 対象年齢
- 一般
- フォーマット
- 単行本
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