有機ケイ素化学の応用展開　機能性物質のためのニューシーズ　普及版

20世紀の幕開けと共にF.S.Kippingによって拓かれた有機ケイ素化学は100年の歴史を刻み，21世紀を迎えた今，基礎有機ケイ素化学の深化とともに関連分野をとりこんだケイ素科学として新たな発展期を迎えている。シリコーン化学工業界の隆盛とアカデミアでの研究レベルの高さ，次代を担う若手研究者を含めた研究者層の厚さ，ケイ素化学協会を中心とした学際・国際・人的交流活動，などいずれも我が国が世界をリードしている。
　我が国においては，1991年から通産省（当時）の10年プロジェクトとして「ケイ素系高分子材料」研究が実施され，産業界でも有機ケイ素化学研究が盛んになり，多くのすぐれた成果が得られた。これらの成果をもとに，「有機ケイ素材料科学の新展開」（監修
櫻井英樹，シーエムシー，2001年）が発行されている。これは20世紀の締めくくりとしての我が国のケイ素材料科学研究の成果をとりまとめたものと位置づけることができよう。
　21世紀に入って数年，有機ケイ素化学は我が国を中心に急速に発展しつづけている。新しい結合様式をもった分子群の出現に加えて，ケイ素を含むパイおよびシグマ共役系分子群，ゾルゲル法で創り出される新物質相，シリコン表面科学，シリコンナノクラスター科学など，まさにフォトエレクトロニクス方面への応用展開が期待される「機能物質科学の宝庫」が出現しているといえよう。そこで，これらの分野の最先端研究の現状と将来展望をまとめておくことは，「有機ケイ素化学」が「有機ケイ素科学」として発展していくための重要なステップと考え，本書を著すこととなった次第である。
　本企画に賛同し，お忙しい中快く執筆に応じられた多数の執筆者各位に心より感謝したい。また本書完成にあたっては，シーエムシー出版の西出寿士氏の努力と熱意によるところが大きい。ここに記して感謝したい。

2004年10月　京都大学化学研究所　玉尾皓平

目次

第1章　新しい有機ケイ素化合物群
第2章　オリゴシラン，ポリシラン
第3章　ポリシランのフォトエレクトロニクスへの応用
第4章　ケイ素を含む共役電子系
第5章　シロキサン，シルセスキオキサン，カルボシラン
第6章　シリコーンの応用新展開
第7章　シリコン表面，シリコンクラスター

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