レーザプロセス技術　基礎から実際まで「増補改訂版」

1. レーザプロセスとは

2. プロセス用レーザの基礎
　2.1　レーザ発振とレーザ光
　◇ レーザ発振
　　（a）自然放出と誘導放出
　　（b）反転分布と光の増幅
　　（c）光共振器と誘導放出
　　（d）発振
　◇ レーザ光の特性
　　（a）単色性
　　（b）指向性と集光性
　2.2　光共振器とモード
　◇ 安定形共振器とモード
　◇ 不安定形共振器とモード
　◇ ハイブリッド形共振器
　2.3　レーザビームの伝搬と集光
　2.4　レーザビームの制御
　◇ ビームの空間制御
　　（a）発振横モードの制御
　　（b）ビームの伝送と方向制御
　　（c）ビームの集光と整形
　◇ ビームの時間制御
　　（a）励起媒質の制御
　　（b）共振器の制御
　◇ ビームの偏光制御
　2.5　レーザビームの品質評価

3. レーザプロセスの基礎
　3.1　物質によるレーザ光の吸収と熱拡散
　3.2　プラズマの生成とレーザ光の吸収
　3.3　熱処理プロセス
　3.4　光化学処理プロセス
　3.5　レーザアブレーション
　◇ 短波長レーザアブレーション
　◇ 超短パルスレーザアブレーション

4. プロセス用レーザ
　4.1　気体レーザ
　◇ CO2レーザ
　　（a）励起と緩和
　　（b）放電励起CO2レーザの構造
　　（c）励起用放電と電源回路
　　（d）CO2レーザ用共振器とモード
　　（e）CO2レーザの偏光
　　（f）出力特性
　◇ TEA CO2レーザ
　　（a）励起と緩和
　　（b）TEA CO2レーザの構造と励起用放電　（c）TEA CO2レーザ用共振器
　◇ エキシマレーザ
　　（a）エキシマレーザの原理
　　（b）励起方式
　　（c）予備電離方式
　　（d）放電励起回路方式
　（e）エキシマレーザ装置
　　（f）エキシマレーザの特性
　◇ 金属蒸気レーザ
　　（a）銅蒸気レーザ
　　（b）He-Cd+レーザ
　◇ Ar+レーザ
　　（a）励起と緩和
　　（b）レーザ管
　ほか

目次

第１章　レーザプロセスとは？
第２章　プロセス用レーザの基礎（レーザ発振とレーザ光
光共振器とモード　ほか）
第３章　レーザプロセスの基礎（物質によるレーザ光の吸収と熱拡散
プラズマの生成とレーザ光の吸収　ほか）
第４章　プロセス用レーザ（気体レーザ
固体レーザ　ほか）
第５章　レーザプロセスの実際（レーザ加工機構
熱処理プロセス　ほか）

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