薄膜の基本技術「第３版」
発売日：2008年7月
- 版数
- 第３版
- ISBN
- 978-4-13-062840-2
- 著者情報
- 金原 粲（キンバラ アキラ）
１９３３年静岡市に生れる。１９５６年東京大学理学部物理学科卒業。１９６２年東京大学大学院数物系研究科修了。工学博士。東京大学工学部教授（物理工学科）を経て、１９９４年東京大学名誉教授、金沢工業大学教授。２００４年東京大学先端科学技術研究センター研究員。２００７年東京大学生産技術研究所共同研究員
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商品説明
現代の最先端技術を支える材料、薄膜の作り方や物性の測定などを基本から学べる定番テキスト。好評を博した第２版を全面改訂。
目次
１ 真空装置の基本（真空の必要性
基本的構成 ほか）
２ 真空蒸着法（真空蒸着と基板
気体に関する基本的な法則と公式 ほか）
３ スパッタリング法（放電とプラズマ
放電プラズマの基礎 ほか）
４ 膜厚測定法（膜厚とは：その多様性
膜厚の分類 ほか）
５ 関連技術（ガラスその他の基板洗浄
電気抵抗測定 ほか）
商品詳細
- 出版社名
- 東京大学出版会
- フォーマット
- 単行本
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