半導体製造における排ガス処理システムとそ

半導体工業の排ガス処理技術は、古典的な湿式物理、化学吸収、乾式化学吸着から燃焼、熱
分解、触媒、プラズマ分解と半導体製造プロセスの技術革新、あるいはPFC、HFCで代表され
る地球環境問題から、次々と新技術が開発されてきた。そして処理理論も反応工学を主体
として、物理化学の熱力学、安全工学の燃焼反応、環境工学と多岐にわたるようになってい
る。本書はその辺に焦点を合わせて、湿式物理、化学吸収、乾式化学吸着、燃焼、熱分解、触
媒、プラズマ分解による排ガス処理技術、排ガス処理装置、および関連問題を解説した本
で

目次

第１章　半導体用ガスの化学
１．１　可燃性ガス
１．２　支燃性ガス
１．３　ＰＦＣガス
第２章　供給装置の排ガス処理装置
２．１　乾式排ガス処理装置
２．２　熱酸化分解式排ガス処理装置
第３章　製造装置からの排ガスと処理技術
３．１　常圧ＣＶＤ
３．２　低圧，　プラズマＣＶＤ
３．３　ＭＯＣＶＤ
３．４　ドライエッチング装置
３．５　枚葉式エピタキシャル装置
第４章　製造装置の排ガス処理装置
４．１　ＣＶＤ
４．２　ドライエッチャー用乾式排ガス処理装置
４．３　電気加熱分解式排ガス処理装置
４．４　燃焼式

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