クラスターイオンビーム基礎と応用 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公/編著

発売日:2006年10月

  • クラスターイオンビーム基礎と応用 次世代ナノ加工プロセス技術
  • クラスターイオンビーム基礎と応用 次世代ナノ加工プロセス技術
ISBN
978-4-526-05765-6
著者情報
山田 公(ヤマダ イサオ)
京都大学名誉教授。兵庫県立大学高度産業科学技術研究所客員教授

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商品説明

本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。

目次

1 イオンビーム技術の概要(イオンの発見
イオンビーム技術の誕生 ほか)
2 ガスクラスタービームの発生(ガスクラスタービームの発生の原理
ガスクラスターイオンビーム装置 ほか)
3 クラスターイオンビームと固体表面相互作用(クラスターイオンの個体表面衝突現象
ガスクラスターイオンの照射効果の特長 ほか)
4 ナノ加工プロセス応用(半導体デバイス応用
磁性・誘電体デバイス応用 ほか)
5 産業用クラスターイオンビーム装置(ガスクラスターイオンビーム装置
デカボランイオン注入装置)

商品詳細

出版社名
日刊工業新聞社
フォーマット
単行本

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