ナノインプリントの基礎と技術開発・応用展開　ナノインプリントの基盤技術と最新の技術展開

構成および内容

序　章　ナノインプリントの技術開発と進展　　平井義彦
１　コロンブスのタマゴ
２　エンボス加工とナノインプリント
３　ナノインプリント法

第１章　ナノインプリントの基礎的メカニズム　　平井義彦
１　熱ナノインプリントの基礎
1.1　熱ナノインプリントの概要
1.2　高分子樹脂の機械的特性
1.2.1　レオロジー特性とプロセス基本条件
1.2.2　樹脂の成型性とレオロジー特性
1.3　高分子樹脂の変形メカニズム
1.3.1　樹脂の変形解析
1.3.2　アスペクト比依存性
1.3.3　初期膜厚依存性
1.3.4　熱ナノインプリントの解像性
1.4　インプリントの速度依存性
1.5　おわりに
２　光ナノインプリントの基礎
2.1　光ナノインプリントの概要
2.2　光ナノインプリントと解像性
2.2.1　光強度分布のシミュレーション
2.2.2　線幅依存性
2.2.3　残膜厚依存性(回折による影響)
2.2.4　モールド段差の影響) (干渉による影響)
2.3　おわりに
３　モールドの基盤技術
3.1　はじめに
3.2　モールドの表面処理
3.2.1　モールドと離型
3.2.2　シランカップリング剤によるフッ素樹脂膜のコーティング
3.2.3　離型コート膜としての単分子フッ素樹脂膜の性質
ほか

目次

序章　ナノインプリントの技術開発と進展
第１章　ナノインプリントの基礎的メカニズム
第２章　ナノインプリントの装置技術
第３章　ナノインプリントの材料技術
第４章　ナノインプリントのプロセス技術
第５章　ナノインプリントの応用
第６章　ナノインプリントの技術推移と用途展開
第７章　ナノインプリントの展望

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