薄膜作成の基礎「第４版」
発売日：2005年7月
- 版数
- 第４版
- ISBN
- 978-4-526-05503-4
- 著者情報
- 麻蒔 立男（アサマキ タツオ）
昭和９年愛知県に生まれる。昭和３２年静岡大学工学部電子工学科卒業。日本電気株式会社に入社。昭和４２年日電バリアン（現、アネルバ）株式会社設立と同時に出向。昭和４９年工学博士。昭和５１年―昭和５２年日本真空協会理事、研究部会長。昭和６１年日電アネルバ（株）取締役研究開発本部長兼第一技術本部長。平成元年日本真空協会個人理事。平成２年東京理科大学工学部教授。東京理科大学工学部教授。日本真空協会評議員
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商品説明
各方面で大きな注目を集めているナノテクノロジー。その一翼を担うのが、薄膜作成技術である。本書は、好評の第3版の内容を全面的に見直し、特にナノテクノロジーと関連する技術を重点的に加えるなど、最新の情報を盛り込んでいる。
目次
第１章 薄膜技術
第２章 真空の基礎
第３章 真空ポンプと真空計測
第４章 真空装置の実際
第５章 薄膜の基礎
第６章 薄膜作成法
第７章 基板
第８章 蒸着法
第９章 スパッタ
第１０章 気相成長ＣＶＤと熱酸化窒化
第１１章 エッチング
第１２章 精密めっき
第１３章 平坦化技術
商品詳細
- 出版社名
- 日刊工業新聞社
- フォーマット
- 単行本
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