レジスト材料
発売日:2005年2月
- ページ数
- 104p
- ISBN
- 978-4-320-04372-5
- 著者情報
- 伊藤 洋(イトウ ヒロシ)
1976年東京大学工学系研究科博士課程修了。1976年〜1980年ニューヨーク州立大学シラキュース校化学科博士研究員、研究員。多糖合成に従事。1980年〜現在、IBMアルマデン研究所Research Staff Member(主任研究員)、工学博士。主として、感光性高分子、レジストの開発研究、高分子合成に従事
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商品説明
高分子材料“レジスト”は電子機器の高性能化、低価格化に革命をひき起こしている。その開発の第一人者が歴史・現在・未来を語る。
目次
第1章 リソグラフィ技術による微細加工とレジスト(レジストとは何か?
レジストの分類
レジストに要求される性能と特性評価法)
第2章 レジスト材料とリソグラフィ技術の発展の歴史(架橋ネガ型レジスト
ポジ型フォトレジスト ほか)
第3章 化学増幅レジスト(酸触媒反応―増幅の化学
酸発生剤 ほか)
第4章 現状と将来
第5章 おわりに
商品詳細
- シリーズ名
- 高分子先端材料One Point 10
- 出版社名
- 共立出版
- サイズ
- 19cm
- 対象年齢
- 一般
- フォーマット
- 単行本
注意事項
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