キラルテクノロジー 普及版
発売日：2004年7月
- ISBN
- 978-4-88231-836-1
- 著者情報
- 中井 武（ナカイ タケシ）
東京工業大学工学部化学工学科教授。（現）新潟大学大学院自然科学研究科エネルギー基礎科学専攻教授
大橋 武久（オオハシ タケヒサ）
鐘淵化学工業（株）総合研究所取締役所長。（現）鐘淵化学工業（株）研究開発本部常務理事
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商品説明
近年、医農薬や機能材料分野において光学活性有機化合物（エナンチオマー）の需要が高まり、光学活性体を製造・供給しようとする工業技術“キラルテクノロジー”が注目されている。本書は、国際的にも高いレベルにある我が国のキラルテクノロジーの現状を概観し、今後の発展に資するよう企画されたものである。
目次
キラルテクノロジー工業化の展望
第１編 不斉合成―生化学的手法（バイオ技術と有機合成を組み合わせた医薬品中間体の合成
微生物を用いたキラルビルディングユニットの開発 ほか）
第２編 不斉合成―不斉触媒合成（ＢＩＮＡＰ‐金属錯体を触媒に用いた不斉反応の利用
不斉合成・光学分割技術によるプロスタグランジン類の開発）
第３編 光学分割法（光学活性ピレスロイドの合成法の開発と工業化
ジアステレオマー法による光学活性体の製造 ほか）
展望
商品詳細
- シリーズ名
- ＣＭＣテクニカルライブラリー １７６
- 出版社名
- シーエムシー出版
- フォーマット
- 単行本
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