薄膜化技術「第３版」
発売日：2002年6月
- 版数
- 第３版
- ISBN
- 978-4-320-08613-5
- 著者情報
- 和佐 清孝（ワサ キヨタカ）
昭和３５年大阪大学工学部電気工学科卒。専攻は電気工学。松下電器産業（株）無線研究所、材料研究所、中央研究所主幹研究員、技監、副理事、（財）地球環境産業技術研究機構、理事、研究所副所長、横浜市立大学理学部教授を経て、現在、横浜市立大学理学部客員教授、工学博士。放電プラズマと陰極スパッタの分野で研究開発を行なうとともに、陰極スパッタで形成した各種の薄膜材料・デバイスの工業化を図り、特許注目発明賞、科学技術研究功績者賞、１Ｒ１００賞、表面科学論文賞など受賞、米国電気学会フェロー
早川 茂（ハヤカワ シゲル）
昭和２５年大阪大学理学部物理学科卒。専攻は物理学。松下電器産業（株）無線研究所、材料研究所、中央研究所所長、研究本部長、専務取締役、（株）イオン工学センター社長を経て、（株）イオン工学センター相談役、工学博士、平成１３年２月没。エレクトロセラミックスや薄膜・デバイスの分野で、研究開発を行ない、紫綬褒章、科学技術研究功労者賞、毎日工業技術賞、電子通信学会著述賞、粉体粉末冶金協会研究功績賞、特許奨励賞など受賞、米国電気学会フェロー
セブン-イレブン受取り(送料無料)
発送目安
発売日（発売日以降は当日）～2日で発送
宅配（送料¥550税込）
発送目安
発売日（発売日以降は当日）～2日で発送
交通状況・天候の影響や注文が集中した場合等、お届けにお時間をいただく場合がございます。
商品説明
薄膜化技術はナノテクノロジーの基礎。思い通りのナノ材料・デバイスが薄膜化技術で作製できる。最新のデータとノウハウを増補。
目次
第１部 薄膜とその応用（薄膜材料
薄膜の形成法と評価
スパッタプロセスにおける興味ある現象）
第２部 スパッタの基礎と応用（スパッタの基礎
スパッタ装置と動作特性
化合物薄膜とスパッタ蒸着
薄膜構造の精密制御とナノメータ材料）
商品詳細
- 出版社名
- 共立出版
- フォーマット
- 単行本
注意事項
- 本の帯に関して
- 帯つきでの出荷はお約束しておりません。
商品ページに、帯のみに付与される特典物等の表記がある場合でも、確実に帯つきでの出荷はお約束しておりません。
また、帯は商品の一部ではなく「広告扱い」のため、帯の有無・破損による交換や返品は承っておりません。 - 版・表紙について
- 版・表紙（カバー）のご指定は承っておりません。ご注文いただくタイミングによっては、お届けする商品の版や表紙が商品ページ上のものとは異なる場合がございます。
また、初版にのみにお付けしている特典（初回特典、初回仕様特典）がある商品は、商品ページに特典の表記がされている場合でも、無くなり次第終了となります。