シリーズ:結晶成長のダイナミクス 3巻「エピタキシャル成長のメカニズム」
西永頌/シリーズ編集委員 宮沢信太郎/シリーズ編集委員 佐藤清隆/シリーズ編集委員
発売日:2002年5月
- 巻の著者
- 中嶋一雄/責任編集
- 巻の書名
- エピタキシャル成長のメカニズム
- ISBN
- 978-4-320-03412-9
- 著者情報
- 中嶋 一雄(ナカジマ カズオ)
1975年3月、京都大学大学院工学研究科博士課程学修。1977年3月、京都大学工学博士の学位取得。現在、東北大学金属材料研究所教授、工博
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商品説明
本巻では、エピタキシャル成長の熱力学、結晶成長のカイネティクス、基板の表面状態とエピタキシャル成長、ヘテロエピタキシャル成長といった、エピタキシャル成長にとって最も基本となり重要なテーマを取り上げ解説している。成長方法は、最も基本となる液相エピタキシャル成長、気相エピタキシャル成長、分子線エピタキシャル成長の3方法を取り上げた。
目次
1 基本概念(エピタキシャル成長の基礎
結晶成長に影響を与える因子
成長モード)
2 エピタキシャル成長の熱力学(固液平衡からの成長(LPE)
固気平衡からの成長)
3 結晶成長のカイネティクス(成長表面のカイネティクス
溶液成長における溶質元素の拡散
気相成長の物質輸送効果)
4 基板の表面状態とエピタキシャル成長(面方位とエピタキシャル成長
微傾斜面とエピタキシー
サーファクタントを利用した成長)
5 ヘテロエピタキシャル成長(ヘテロエピタキシャル成長と格子整合
ヘテロ構造の応力・歪み)
商品詳細
- 出版社名
- 共立出版
- 対象年齢
- 一般
- フォーマット
- 単行本
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