集積回路工学概論

  • 集積回路工学概論
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ISBN
978-4-87259-074-6
著者情報
浜口 智尋(ハマグチ チヒロ)
1937年三重県伊勢市生まれ。1966年大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻博士課程修了。現在、高知工科大学客員教授、大阪大学名誉教授。研究テーマは半導体物性、半導体デバイス、半導体の量子構造、電子輸送。工学博士

谷口 研二(タニグチ ケンジ)
1948年愛媛県東宇和郡生まれ。1973年大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻修士課程修了。現在、大阪大学大学院工学研究科教授。研究テーマは不純物原子拡散、ゲート酸化膜信頼性、アナログ回路設計。工学博士

島 亨(シマ トオル)
1935年長野県飯田市生まれ。1961年大阪大学工学部電気工学科卒。現在、(株)小松製作所常任顧問

有門 経敏(アリカド ツネトシ)
1951年福岡県豊前市生まれ。1978年大阪大学大学院工学研究科応用化学専攻博士後期課程修了。現在、(株)半導体先端テクノロジー生産技術研究部。研究テーマは半導体製造プロセス。工学博士

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商品説明

最新の半導体工学の重要な部分を現場における知識を含めて実際的に概説。種々の技術の集大成である集積回路をブラックボックスとせず、製造過程の視点からバランスよく設計・製造できる技術者の育成を目的としてまとめられたテキスト。

目次

序章 半導体産業について
第1章 集積回路の製造プロセス
第2章 設計技術
第3章 MOS技術
第4章 プロセス技術
第5章 プロセスモジュール技術
第6章 パッケージング技術
第7章 テスト技術
第8章 信頼性技術

商品詳細

出版社名
大阪大学出版会
フォーマット
単行本

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