X線分析の進歩 32

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ISBN
978-4-900041-90-5

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商品説明

本書は昭和39年(1964年)に『X線工業分析』として発刊され、第5集から『X線分析の進歩』として毎年刊行されているものである。内容は、解説と報文、その年度におけるX線分析関係の論文・行事の紹介、機器についての資料集など。わが国における業界の年鑑といえるものである。

目次

<1.解説>
1.遷移金属のLα、Lβスペクトルの化学結合効果
 (河合 潤)
2.斜出射X線測定型の電子線プローブマイクロアナリシス
 (辻 幸一)
3.RIETAN-2000のLe Bail解析機能の検証と応用
 (池田卓史,泉富士夫)

<2.報文>
4.NiKα/NiKβ線を用いた2波長X線反射率法の検討
 (宇佐美勝久,小林憲雄,平野辰巳,田島康成,今川尊雄)
5.EPMA用Cr/Sc多層膜分光素子の分光性能
 (河辺一保,山田浩之,奥村豊彦)
6.高分解能平行ビーム法による結晶格子の熱膨張測定
 (光永 徹,西郷真理,藤縄 剛)
7.In-Plane回折法におけるプロファイル形状評価
 (高瀬 文,藤縄 剛)
8.種々のK、Ca化合物のKX線スペクトル変化
 (星野公紀,玉木洋一)
9.VKβスペクトルの吸収端励起
 (河合 潤,原田真吾,岸田逸平,岩住俊明,片野林太郎,五十棲泰人,小路博信,七尾 進)
10.斜入射蛍光X線法によるBST/SRO同時組成分析
 (村上裕是,寺田慎一,古川博朗,西萩一夫)
11.発光過程を識別した蛍光収量X線吸収スペクトル測定
 (村松康司)
12.軟X線を用いた弗化物のK吸収端の測定
 (杉村哲郎,河合 潤,前田邦子,福島昭子,辛 埴,元山宗之,中島 剛)
13.レイリー又はコンプトン散乱の理論強度で補正する定形外試料と窯業原料の蛍光X線分析
 (越智寛友)

<3.技術報告>
14.立命館大学小型放射光源におけるX線反射率測定ビームライン
 (西勝英雄,宮田洋明,山田 隆,谷 克彦,岩崎 博,山本安一,庄司 孝,堂井 真,岩田周行)

<4.既掲載X線粉末回折図形索引>

<5.2000年X線分析のあゆみ>
1.X線分析関係文献集
2.X線分析関係国内講演会開催状況
3.X線分析研究懇談会講演会開催状況
4.X線分析研究懇談会規約
5.「X線分析の進歩」投稿の手引き
6.(社)日本分析化学会X線分析研究懇談会2000年度運営委員名簿
7.「X線粉末回折図形集」の収集に御協力のお願い

<6.X線分析関連機器資料>
<7.既刊総目次>
<8.X線分析の進歩32 索引>

商品詳細

シリーズ名
X線工業分析 36集
出版社名
アグネ技術センター
フォーマット
単行本

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