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  • 集積回路工学   1 新版 プロセス・デ

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集積回路工学   1 新版 プロセス・デ

  • 永田 穰 著 柳井 久義 著 永田 穰(ナガタ ミノル)
    1956年東京大学工学部電気工学科卒業。1956年(株)日立製作所入社。1966年工学博士(東京大学)。1972年同社中央研究所第3部長。1975年同社中央研究所主管研究員。1985年同社理事、中央研究所技師長。1995年同社理事、研究開発推進本部技師長。1998年同社名誉嘱託

    柳井 久義(ヤナイ ヒサヨシ)
    1942年東京大学工学部電気工学科卒業。1953年工学博士(東京大学)。1960年東京大学教授。1981年東京大学名誉教授、芝浦工業大学教授、東京芝浦電気(株)総合研究所顧問。1986年芝浦工業大学学長。1991年芝浦工業大学名誉教授。1995年逝去

  • シリーズ名
    大学講義シリーズ
  • ISBN
    978-4-339-00144-0
  • 発売日
    2005年09月

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商品の説明

  • 広範な集積回路技術を基本から学ぶ学生や研究者向けに、基礎的な理論とプロセス・デバイス技術を、数値例、演習問題を豊富に取り入れて解説。新版では、MOSのアナログ回路など新しく重要度の増してきた技術の記述を強化した。
目次
1 半導体工業の歴史と集積回路
2 集積回路の種類
3 モノリシック集積回路のあらまし
4 pn接合とMOS構造
5 半導体モノリシックICの製造技術
6 半導体モノリシックICの構成素子
7 半導体モノリシックICのパターン設計

商品詳細情報

フォーマット 単行本
サイズ 22cm

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